第1182章:一个新的时代,即将来临第1/3段

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  “陈总,这台就是我们研发出来的浸润式光刻机。这一台光刻机打破了传统的干式光刻理论,采用湿式以水为媒介,从而让制程大幅度的进行了提升。虽然我们目前的制程水平是在100纳米左右,但我们随时可以进入到65纳米行例。”

  “也就是说,一但我们的浸润式光刻机上马,我们的技术水平将可以和asml比肩。同时,我们也能生产出目前最为顶尖的芯片。”

  中心国际一处秘密研究基地,林本坚兴奋的向陈宇做着介绍。

  “好,很好。”

  看着眼前这一台光刻机,陈宇同样的有些激动。

  前世,国人不知道为这样的一台光刻机奋斗了多久。

  当然。

  这倒不是说前世国人做不出光刻机。

  其实光刻机技术国人是掌握的,但要做出达到全球顶尖制程的光刻机,那就不是那么容易的事了。

  截止到2021年,前世国内最为顶尖的光刻机制程仅仅只达到90纳米。

  但asml已经达到5纳米,3纳米,甚至往2纳米方向进军。

  这是几十倍的差距。

  同样也是几代水平的差距。

  真按这样的差距进行追赶,恐怕得100年。

  幸好。

  早在之前陈宇就从台积电挖脚了林本坚。

  在他的湿式光刻理论的帮助之下,全球第一台浸润式光刻机就此诞生。

  “陈总,这台光刻机还不是我们最为先进的,在湿式光刻理论的支持之下,我们的制程在未来还可以大幅度的进行提高。目前全球最高制程水平是65纳米,这已经很难再进步了。但我们却才刚刚开始,未来我们将进入45纳米,28纳米,20纳米,10纳米,甚至是7纳米之例……”

  说到技术,林本坚却是滔滔不绝。

  对于他来说,能将自己的理论得已实现,这是最为激动人心的事。

  而且他知道,一但他们的光刻机上马,他将改变全球芯片的进程,甚至改变全球半导体行业的格局。

  “林总工,辛苦了。”

  陈宇双手握住林本坚的右手:“你们随时做好准备。”

  “是,陈总,时刻准备着。”

  ……

  “陈总,我们的湿式光刻机没想到真研发出来了。不过,陈总,您这块可是瞒得我好苦。”

  “我也不想瞒你,但这种事情关系重大,除了中心国际的张如京与我,谁也不知道。而且,如果我愿意的话,我并不想让我们的光刻机上马这么快。至少,现在还不是特别好的时候。”

  “陈总,我明白你的意思。”

  对于环宇科技,张建明是除陈宇最为明白公司情况的。

  如果能够再给环宇科技几年时间发展,那可能很多事情就迎刃而解。

  此时以微软为阵营的一众巨头向环宇科技发难,虽然环宇科技并不畏惧,但损伤也不小。

  好在。

  环宇科技早就料到这一步,一切都做了准备。

  ……

  “张总,你说台积电会加入微软阵营吗?”

  陈宇离开之后,林本坚问向了张如京。

  “本坚,你在台积电这么久,你应该比我了解张中谋,怎么问起我来了。”


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