第1182章：一个新的时代，即将来临第1/3段
“陈总，这台就是我们研发出来的浸润式光刻机。这一台光刻机打破了传统的干式光刻理论，采用湿式以水为媒介，从而让制程大幅度的进行了提升。虽然我们目前的制程水平是在100纳米左右，但我们随时可以进入到65纳米行例。”
“也就是说，一但我们的浸润式光刻机上马，我们的技术水平将可以和asml比肩。同时，我们也能生产出目前最为顶尖的芯片。”
中心国际一处秘密研究基地，林本坚兴奋的向陈宇做着介绍。
“好，很好。”
看着眼前这一台光刻机，陈宇同样的有些激动。
前世，国人不知道为这样的一台光刻机奋斗了多久。
当然。
这倒不是说前世国人做不出光刻机。
其实光刻机技术国人是掌握的，但要做出达到全球顶尖制程的光刻机，那就不是那么容易的事了。
截止到2021年，前世国内最为顶尖的光刻机制程仅仅只达到90纳米。
但asml已经达到5纳米，3纳米，甚至往2纳米方向进军。
这是几十倍的差距。
同样也是几代水平的差距。
真按这样的差距进行追赶，恐怕得100年。
幸好。
早在之前陈宇就从台积电挖脚了林本坚。
在他的湿式光刻理论的帮助之下，全球第一台浸润式光刻机就此诞生。
“陈总，这台光刻机还不是我们最为先进的，在湿式光刻理论的支持之下，我们的制程在未来还可以大幅度的进行提高。目前全球最高制程水平是65纳米，这已经很难再进步了。但我们却才刚刚开始，未来我们将进入45纳米，28纳米，20纳米，10纳米，甚至是7纳米之例……”
说到技术，林本坚却是滔滔不绝。
对于他来说，能将自己的理论得已实现，这是最为激动人心的事。
而且他知道，一但他们的光刻机上马，他将改变全球芯片的进程，甚至改变全球半导体行业的格局。
“林总工，辛苦了。”
陈宇双手握住林本坚的右手：“你们随时做好准备。”
“是，陈总，时刻准备着。”
……
“陈总，我们的湿式光刻机没想到真研发出来了。不过，陈总，您这块可是瞒得我好苦。”
“我也不想瞒你，但这种事情关系重大，除了中心国际的张如京与我，谁也不知道。而且，如果我愿意的话，我并不想让我们的光刻机上马这么快。至少，现在还不是特别好的时候。”
“陈总，我明白你的意思。”
对于环宇科技，张建明是除陈宇最为明白公司情况的。
如果能够再给环宇科技几年时间发展，那可能很多事情就迎刃而解。
此时以微软为阵营的一众巨头向环宇科技发难，虽然环宇科技并不畏惧，但损伤也不小。
好在。
环宇科技早就料到这一步，一切都做了准备。
……
“张总，你说台积电会加入微软阵营吗？”
陈宇离开之后，林本坚问向了张如京。
“本坚，你在台积电这么久，你应该比我了解张中谋，怎么问起我来了。”
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