126 45纳米的光刻机第1/3段

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  不过我们要做要的是正确认知自己,真正做到知耻而后勇!

  相信在未来的不久,我们一定可以追上所有国家的科技,把他们远远甩在后边,成为最强的科技国家,掌握最先进的技术,生产最先进的仪器设备。

  万国来朝!

  一片繁荣的景象!

  大家都知道芯片是在硅晶圆片上制作的,我们拿着制作好的硅晶圆片在上边涂抹上光刻胶。

  在光刻胶的上方会有一个掩膜,光刻机释放出来的紫外光线透过掩膜照射到光刻胶上。

  在掩膜上边印有预先已经设计好的电路线图。

  光刻机的作用就是透过掩膜的缝隙,融化下边的光刻胶,使得光刻胶形成了和电路线图一模一样的图案。

  听起来是十分的简单,但是……它的精度是纳米级别的,直接说纳米级别的不容易让人理解,人们也不容易想象出来纳米级别的到底有多小。

  那就打个比方吧,头发丝大家都知道,纳米级别的就是一根头发丝的五千分之一这么细!

  就是这么细!

  而光刻机的镜头误差不能超过两纳米!

  不仅仅镜头的精度要求高,还有机械精度要求也是非常高,纳米级别的,误差同样不能超过2纳米!

  这里说的机械精度就是指光刻机的两个同步工作台,一个是盛放底片的,也就是硅圆片,一个是放掩膜的,两个要同步移动!

  当然了精密高仅仅是光刻机的第一个要求,还有着其他要求,比如光源问题!

  光刻机里边蕴含着光学系统也是复杂到了极点,现在最先进的就是极紫外光,全世界掌握这种技术的也就仅仅米国掌握了!

  现在我们国家能自己生产的、可以实现量产的、最先进的光刻机也就是长城微电子设备公司制造的光刻机!

  是600系列的光刻机,最高能实现90纳米的的生产工艺!

  90纳米!

  而外国的已经可以实现5纳米了!

  可以看出来差距非常大,中间隔着好几代的差距!

  需要我们迎头赶上!

  对于光刻机的精度,90纳米是一个难关,45纳米是一个难关,22纳米又是一个技术门槛……

  虽然我们最先进的国产技术仅仅能生产90纳米的光刻机,但是并不代表我们的企业只能生产90纳米的芯片,其实中芯国际已经能做到了生产14纳米工艺的芯片了,而且还是量产。

  如果不计成本,我们甚至可以做到趋近于7纳米制造工艺的芯片,当然了这里的前提是不计成本!

  一句不计成本包含了多少的无奈!

  这里王昊天想要制作属于自己的光刻机,那么他的终极目标肯定是5n纳米的,甚至是更高端的。

  但是现在不行……

  要是他现在直接拿出了5纳米的光刻机,那么就等着被切成碎片研究吧 虽然我们最先进的国产技术仅仅能生产90纳米的光刻机,但是并不代表我们的企业只能生产90纳米的芯片,其实中芯国际已经能做到了生产14纳米工艺的芯片了,而且还是量产。


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